周建民
SENTECH仪器（德国）有限公司
地点：唐仲英楼A313
时间：2017-01-05 14:00
内容简介：一、德国SENTECH公司简介二、ICP‐RIE 刻蚀机刻蚀应用三、低温至-150℃的深硅刻蚀优势介绍四、低温ICPECVD的氧化物沉积工艺五、高性能光谱椭偏仪薄膜测量介绍
上海交通大学毕业，任SENTECH Instruments GmbH公司中国办事处总经理。在等离子刻蚀、等离子沉积及椭偏薄膜测量积累了十余年的经验。本次宣讲将为大家介绍SENTECH公司在半导体材料刻蚀、沉积及薄膜测量方面的最新技术及应用。